野原諭の発言 （経済産業委員会）

○野原政府参考人　お答え申し上げます。
　我が国の半導体産業の復活に向けた基本戦略でございますが、十一月に開催いたしました第四回の半導体・デジタル産業戦略検討会議においてお示しをしたところでございます。
　具体的には、まずはステップ一としまして、半導体の国内製造基盤の整備に取り組む。ステップ二としまして、二〇二五年以降に実用化が見込まれる次世代半導体の製造技術開発を国際連携にて進める。ステップ三といたしまして、二〇三〇年以降をにらみまして、ゲームチェンジとなり得る光電融合などの将来技術の開発などにも着手していく。
　そのように整理しておりますが、本法案はステップ一に位置づけられるものでございまして、まずは我が国にとって喫緊の課題となっている先端半導体の安定供給体制を構築するものでございます。
　その上で、半導体製造技術の進展のスピードは非常に速いものがございます。需要に合わせて国内製造拠点の技術がアップデートされていくように、本法案におきましては、事業者が支援を受けるための認定基準の一つといたしまして、生産能力の強化のための研究開発等を求めていくとしているところでございます。
　また、今回の補正予算案におきましても、ステップ二、さらにはステップ三に当たる次世代半導体の研究開発事業について一千百億円を計上してございます。この事業では、日米連携による超微細な次世代半導体の製造技術、それから、電気配線を光配線化することで多量のデータを高速かつ低消費電力で処理する光電融合などの将来技術について研究開発を行う予定でございます。
　先端半導体の製造拠点整備とともに、こうした世界をリードする研究開発を両輪として取り組むことで、半導体産業の復活につなげてまいりたいと考えております。